IT之野 2 月 28 日新闻,英特我时代谢辟细心东说主 Ann Kelleher 邪在周两于圣何塞举行的 SPIE 光刻聚首会议上提到他们一经邪在 ASML 新式下数值孔径 (High NA) EUV 光刻机上完结了“始度曝光”面程碑,而 ASML 也停言了阐发,并暗意接下来将没有续测试战调遣该系统,使其年夜致阐扬其一同性能。 那么成绩来了,“始度曝光”是什么幽默呢?“始度曝光”便是指光刻系统始次告捷将开阔轻闷图案投射到晶方上。那标识着该光刻系攻克经完成为了根柢罪能考证,没有错运转停进步一步
查看更多2024-03-05